Fabricación de películas delgadas

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Nucleación y crecimiento de capas
En los puntos donde se forman los enlaces más fuertes, es donde se encuentra más favorecida la formación de núcleos. Una vez que los núcleos alcanzan cierto tamaño crítico resulta energéticamente más favorable su crecimiento que su reevaporación. 
. La estructura del depósito (amorfa o policristalina), habitualmente obtenida en los procesos de CVD, se encuentra determinada por la velocidad de aporte de masa y por la temperatura del proceso.
A altas temperaturas y bajas concentraciones, la movilidad de los átomos adsorbidos es baja, pero la velocidad de suministro de masa es alta y se forman numerosos núcleos con orientaciones diferentes. La coalescencia de dichos núcleos da como resultado la formación de una estructura policristalina.
Si las temperaturas son bajas y se aumenta la concentración de reactivos, se forma una mayor cantidad de núcleos y finalmente la estructura del depósito puede llegar a presentar una estructura amorfa.
Técnicas de preparación de películas delgadas
Se basan en la deposición física o química de películas delgadas a partir de la fase vapor 
 - Physical Vapour Deposition ( PVD )
 -Chemical Vapour Deposition ( CVD )
Su base es la formación de un vapor del material a depositar, con objeto de que el vapor se condense sobre la superficie del substrato formando una capa delgada
PVD: se parte de un material sólido que se convierte en vapor mediante calentamiento (evaporación) o bombardeo con iones energéticos. El material en forma de vapor termina condensándose sobre la superficie del substrato en forma de capa delgada.
CVD: se parte directamente de gases (a veces en forma líquida que pasan a estado de vapor) los cuales mediante reacción dan un producto nuevo que se condensa en forma de película delgada sobre el substrato.
CVD
Los reactivos gaseosos son introducidos dentro del reactor mediante un flujo forzado.
los gases se difunden a través de la capa límite.
los gases entran en contacto con la superficie del sustrato.
las reacciones de deposición tienen lugar sobre la superficie del sustrato.
los subproductos de la reacción se difunden desde la superficie, hacia el exterior a través de la capa límite.
Para unas condiciones dadas de deposición los factores más importantes que controlan la cinética de formación de los núcleos son la naturaleza y el estado de la superficie y las energías de adsorción a la superficie y de cohesión o enlace entre ellos. 
Existen tres modelos básicos de nucleación según sean los valores relativos de las energías de adsorción (Eads) y de enlace (Eenl) entre los átomos que forman la capa:
PVD
El proceso de depósito de una película delgada que se produce por un método físico tiene tres fases: